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    1.紫外吸收光譜：

　　縮寫：UV;

　　分析原理：吸收紫外光能量，引起分子中電子能級的躍遷;

　　譜圖的表示方法：相對吸收光能量隨吸收光波長的變化;

　　提供的信息：吸收峰的位置、強度和形狀，提供分子中不同電子結構的信息。

　　2.熒光光譜法：

　　縮寫：FS;

　　分析原理：被電磁輻射激發(fā)后，從低單線激發(fā)態(tài)回到單線基態(tài)，發(fā)射熒光;

　　譜圖的表示方法：發(fā)射的熒光能量隨光波長的變化;

　　提供的信息：熒光效率和壽命，提供分子中不同電子結構的信息。

　　3.紅外吸收光譜法：

　　縮寫：IR;

　　分析原理：吸收紅外光能量，引起具有偶極矩變化的分子的振動、轉動能級躍遷;

　　譜圖的表示方法：相對透射光能量隨透射光頻率變化;

　　提供的信息：峰的位置、強度和形狀，提供功能團或化學鍵的特征振動頻率。

　　3.拉曼光譜法：

　　縮寫：Ram;

　　分析原理：吸收光能后，引起具有極化率變化的分子振動，產生拉曼散射;

　　譜圖的表示方法：散射光能量隨拉曼位移的變化;

　　提供的信息：峰的位置、強度和形狀，提供功能團或化學鍵的特征振動頻率。

　　4.核磁共振波譜法：

　　縮寫：NMR;

　　分析原理：在外磁場中，具有核磁矩的原子核，吸收射頻能量，產生核自旋能級的躍遷;

　　譜圖的表示方法：吸收光能量隨化學位移的變化;

　　提供的信息：峰的化學位移、強度、裂分數和偶合常數，提供核的數目、所處化學環(huán)境和幾何構型的信息。

　　5.電子順磁共振波譜法：

　　縮寫：ESR;

　　分析原理：在外磁場中，分子中未成對電子吸收射頻能量，產生電子自旋能級躍遷;

　　譜圖的表示方法：吸收光能量或微分能量隨磁場強度變化;

　　提供的信息：譜線位置、強度、裂分數目和超精細分裂常數，提供未成對電子密度、分子鍵特性及幾何構型信息。

　　6.質譜分析法：

　　縮寫：MS;

　　分析原理：分子在真空中被電子轟擊，形成離子，通過電磁場按不同m/e分離;

　　譜圖的表示方法：以棒圖形式表示離子的相對峰度隨m/e的變化;

　　提供的信息：分子離子及碎片離子的質量數及其相對峰度，提供分子量，元素組成及結構的信息。

　　7.氣相色譜法：

　　縮寫：GC;

　　分析原理：樣品中各組分在流動相和固定相之間，由于分配系數不同而分離;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：峰的保留值與組分熱力學參數有關，是定性依據;峰面積與組分含量有關。

　　8.反氣相色譜法：

　　縮寫：IGC;

　　分析原理：探針分子保留值的變化取決于它和作為固定相的聚合物樣品之間的相互作用力;

　　譜圖的表示方法：探針分子比保留體積的對數值隨柱溫倒數的變化曲線;

　　提供的信息：探針分子保留值與溫度的關系提供聚合物的熱力學參數。

　　9.裂解氣相色譜法：

　　縮寫：PGC;

　　分析原理：高分子材料在一定條件下瞬間裂解，可獲得具有一定特征的碎片;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：譜圖的指紋性或特征碎片峰，表征聚合物的化學結構和幾何構型。

　　10.凝膠色譜法：

　　縮寫：GPC;

　　分析原理：樣品通過凝膠柱時，按分子的流體力學體積不同進行分離，大分子先流出;

　　譜圖的表示方法：柱后流出物濃度隨保留值的變化;

　　提供的信息：高聚物的平均分子量及其分布。

　　11.熱重法：

　　縮寫：TG;

　　分析原理：在控溫環(huán)境中，樣品重量隨溫度或時間變化;

　　譜圖的表示方法：樣品的重量分數隨溫度或時間的變化曲線;

　　提供的信息：曲線陡降處為樣品失重區(qū)，平臺區(qū)為樣品的熱穩(wěn)定區(qū)。

　　12.熱差分析：

　　縮寫：DTA;

　　分析原理：樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，由于二者導熱系數不同產生溫差，記錄溫度隨環(huán)境溫度或時間的變化;

　　譜圖的表示方法：溫差隨環(huán)境溫度或時間的變化曲線;

　　提供的信息：提供聚合物熱轉變溫度及各種熱效應的信息。

　　13.示差掃描量熱分析：

　　縮寫：DSC;

　　分析原理：樣品與參比物處于同一控溫環(huán)境中，記錄維持溫差為零時，所需能量隨環(huán)境溫度或時間的變化;

　　譜圖的表示方法：熱量或其變化率隨環(huán)境溫度或時間的變化曲線;

　　提供的信息：提供聚合物熱轉變溫度及各種熱效應的信息

　　14.靜態(tài)熱-力分析：

　　縮寫：TMA;

　　分析原理：樣品在恒力作用下產生的形變隨溫度或時間變化;

　　譜圖的表示方法：樣品形變值隨溫度或時間變化曲線;

　　提供的信息：熱轉變溫度和力學狀態(tài)。

　　15.動態(tài)熱-力分析：

　　縮寫：DMA;

　　分析原理：樣品在周期性變化的外力作用下產生的形變隨溫度的變化;

　　譜圖的表示方法：模量或tgδ隨溫度變化曲線;

　　提供的信息：熱轉變溫度模量和tgδ。

　　16.透射電子顯微術：

　　縮寫：TEM;

　　分析原理：高能電子束穿透試樣時發(fā)生散射、吸收、干涉和衍射，使得在相平面形成襯度，顯示出圖象;

　　譜圖的表示方法：質厚襯度象、明場衍襯象、暗場衍襯象、晶格條紋象和分子象;

　　提供的信息：晶體形貌、分子量分布、微孔尺寸分布、多相結構和晶格與缺陷等。

　　17.掃描電子顯微術：

　　縮寫：SEM;

　　分析原理：用電子技術檢測高能電子束與樣品作用時產生二次電子、背散射電子、吸收電子、X射線等并放大成象;

　　譜圖的表示方法：背散射象、二次電子象、吸收電流象、元素的線分布和面分布等;

　　提供的信息：斷口形貌、表面顯微結構、薄膜內部的顯微結構、微區(qū)元素分析與定量元素分析等。